群创洪进扬:AI为面板产业链提升价值

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作者：夸克财经
这篇《关键材料光刻胶》主要学习光刻的原理、流程及认识光刻胶材料和性能，介绍光刻胶在工艺流程的各个环节和应用知识，主要针对显示芯片和显示面板生产等工作人员，帮助认识和学习光刻胶的使用范围、性能参数及正确使用方法等。希望这篇《关键材料光刻胶》能够给你的工作带来实实在在的便利和提升。

这篇《关键材料光刻胶》注重基础知识，以图片+文字形式把高深而专业的知识讲解出来，让你看得明白，学有心得。

以下为《关键材料光刻胶》目录：

一、光刻的基本原理

1、光刻的定义

2、旋转涂覆

3、喷涂

4、前烘

5、曝光

6、后烘/显影

7、坚膜/接触/接近式光刻

8、投影式光刻/激光直写光刻

9、电子束光刻/极紫外光刻

10、光刻胶的构成及其作用

11、光刻胶的选择

二、光刻胶性能参数

1、微流控胶

2、电子束胶

3、Liff-off胶

4、DUV光刻胶

5、正胶

6、负胶

7、临时键合胶

8、永久键合胶

9、特殊材料

三、正确使用光刻胶

1、接触式光刻机

2、曝光时间的计算

3、单色敏感光刻胶

4、宽谱敏感光刻胶

5、曝光剂量的确定

6、AZ光刻胶常用性能表

以下是以图片+文字形式进行展开：